日本電子掃描電子顯微鏡JASM-6200(ASEM)是和在其上方設置的光學顯微鏡構成,能夠在大氣壓下觀察樣品.

FEI掃描電鏡Verios XHR SEM是 FEI 的 XHR（極高分辨率）SEM 系列的第二代產品.在半導體制造和材料科學應用中,它可在 1 至 30 kV 范圍內提供亞納米量級分辨率以及增強的對比度,滿足材料精密測量所需.

JSM-IT100 提供的直觀操作，同樣也適用于EDS分析，利用 EDS 導航器能順利地進行定量分析、定性分析和元素面分布，只需很少的步驟就可執行豐富的分析功能，新手也能輕松駕馭。

JSM-IT300掃描電子顯微鏡經過改進照射系統、真空系統和信號處理系統，不僅能觀察高質量的圖像，還能利用觸控屏和快速樣品臺進行高通量的直觀操作。

最先進的臺式掃描電子顯微鏡日本電子JCM-6000Plus。按下裝置的分析按鈕，就能開啟 EDS 視窗。EDS 能支持定性 / 定量分析、點分析和元素面分析（確認元素分布）。

日本電子場發射掃描電鏡JSM-7200F標配TTLS系統（Through-The-Lens System），無論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統機型有了很大的提升。能兼顧高分辨率觀察和高通量分析，具有充實的自動功能和易用性，是新一代的多功能場發射掃描電鏡。

日本電子場發射掃描電鏡JSM-7800FPRIME電子槍和低像差聚光鏡的優化組合，實現了更高的亮度，能有效采集電子槍中發射的電子，即使在低加速電壓下也能獲得幾pA～數10 nA 探針電流，

日本電子場發射掃描電鏡JSM-7800F配備了新開發的超級混合式物鏡(SHL)，在保持極高的可操作性的同時，實現了低加速電壓下的高分辨率。能量過濾器位于高位檢測器 (UED)的正下方，可以選擇能量。即使在低加速電壓下，也能夠精確地選擇二次電子和背散射電子。

日本電子場發射掃描電鏡JSM-7610F照明系統采用High Power Optics（高性能電子光學系統），可以進行高分辨率、高精度的快速元素分析。配合Gentle Beam （GB模式即柔和光束），可以用幾百電子伏的入射電子束觀察樣品的淺表面。